结合裸die工艺信息 解决方案进行采集。设备支持50倍~-2万倍的无缝隙拍照。
OM可见光设备1:
OM可见光镜头倍数:50倍、100倍、200倍、500倍、1000倍、1500倍。
SEM场发射电镜设备2:
SEM场发射电镜倍数:1千倍~2万倍(支持扫描拍摄功能)
高清晰的拍照效果图,可以看出芯片金属线连接关系、金属层数,电路功能布局、模块划分、芯片不能正常工作,压伤或者烧坏短路。打开拍照软件建立新拍照任务,行列式对准进行上下层对齐调整,得整个芯片的图像数据库。